Pryd bynnag y byddwn yn clywed y gair plasma, weithiau yr hyn sy'n taro yn ein meddwl yw bod nwy llachar disglair sy'n dod allan o bethau fel mellt yn ysgogi neu hyd yn oed mewn rhai ffyrdd pethau fel yr haul ei hun. Nid oes unrhyw amheuaeth bod plasma yn nwy tymheredd uchel, i fod yn sicr; Gallaf ddeall y dryswch cyffredin ar y pwynt hwn. Fodd bynnag, mewn ffiseg, roedd dynodi "plasma" fel ei gyfnod mater ei hun yn ffordd bwysig o'i wahaniaethu oddi wrth nwyon a solidau. Meddyliwch amdano fel pedwerydd cyflwr mater. Mewn plasma, mae'r atomau a'r moleciwlau yn cael eu gwefru mewn rhannau bach. Mae hyn yn golygu bod ganddynt naill ai fwy neu lai o electronau nag atomau niwtral Mae priodwedd plasma yn ei wneud yn ddiddorol ac ychydig yn ddefnyddiol mewn llawer o brosesau gwyddonol.
Mae polymerization plasma yn un o'r prosesau hyn. Mae'n broses sy'n gosod haenau tenau iawn o ddeunyddiau, neu haenau, ar amrywiaeth eang o arwynebau gan ddefnyddio plasma. Er mwyn cyflawni hyn, mae ffurf newydd o siambr a elwir yn siambr gwactod yn cael ei llenwi â gronynnau o nwy gan wyddonwyr. Nesaf, maent yn cyflwyno egni i'r system, gan drosi'r nwy yn blasma. Pan fydd ar y cam plasma, mae'n rhyngweithio â deunyddiau i ffurfio cotio unigryw y cyfeirir ato fel polymer. Yn dibynnu ar sut y caiff ei wneud, gall y cotio polymer fod ag ystod o briodweddau.
Mae'r mathau hyn o haenau yn well na'r haenau arferol a welwn bob dydd, a dyna'n union y byddech yn ei ddisgwyl gan haenau polymer Plasma. Yn wir, un o'r manteision mwyaf yw bod gennym reolaeth dros sut y bydd y cotio yn gweithredu. Mae'r broses yn caniatáu inni gynhyrchu haenau, megis cotio sy'n glynu'n dda iawn at yr wyneb, yn parhau'n wydn dros amser neu sydd â phriodweddau penodol trwy ddewis nwy penodol yn ofalus ac addasu amodau yn y siambr.
Er enghraifft, gellir defnyddio haenau polymer plasma i wneud plastigion yn fwy effeithlon neu i amddiffyn metelau rhag rhwd a chorydiad. Gallwch hyd yn oed greu'r moleciwlau synhwyro, sy'n ddefnyddiol iawn mewn defnydd gwyddonol a meddygol. Ar ben hynny, gellir tiwnio'r haenau hyn i effeithio a yw arwyneb yn teimlo'n wlyb neu'n sych yn seiliedig ar yr hyn sydd ei angen. Yr hyblygrwydd hwn yw un o'r rhesymau pam stopiwr rwber butyl mae haenau mor boblogaidd ar draws nifer o ddiwydiannau.
Ar hyd y blynyddoedd, dechreuodd nifer fawr o ymchwilwyr a meddygon ddefnyddio polymerization plasma i gynhyrchu ffilmiau tenau yn ogystal â haenau wedi'u haddasu. Mae diddordeb cynyddol cyflym yn y technolegau hyn, yn rhannol, oherwydd esblygiad trawiadol technoleg plasma a all ddarparu cyffyrddiad gorffen newydd gyda phriodweddau a reolir yn fanwl yn hawdd iawn. Mae hynny'n golygu y gall gwyddonwyr wneud y haenau yn gyflymach ac ar raddfa, o gymharu â chynt.
Yn ogystal, mae polymerau plasma yn cynnig eiddo adlyniad da iawn. Mae adlyniad y bachau yn hynod o gryf sy'n eu gwneud yn amlbwrpas iawn wrth eu cymhwyso. Gellir creu'r polymerau hyn i fod â phriodweddau penodol - gallant fod yn fio-gydnaws, yn hydroffilig (yn denu dŵr), neu'n hydroffobig (yn gwrthyrru dŵr). Mae'r hyblygrwydd hwn nid yn unig yn drenau i gyflawni haenau hydroffilig a hydroffobig, ond hefyd y ffaith o ddylunio cotio ar gyfer defnydd penodol. Mae gan Plasma Polymer wrthwynebiad rhagorol i gemegau a sefydlogrwydd thermol, ac oherwydd hynny mae'n wydn am oes hir.
Gallai hynny arwain at haenau hyd yn oed yn fwy datblygedig yn y dyfodol. Gallai eraill gael eu gwneud i ymdebygu i nodweddion esgyrn neu gyhyrau. Gallai fod yn arbennig o werthfawr ar gyfer meddygaeth, lle efallai y byddwch am fewnosod deunyddiau o'r fath mewn mewnblaniadau neu declynnau meddygol eraill. Yn y dyfodol, efallai y byddwn hefyd yn dod o hyd i haenau polymer plasma mewn cymwysiadau newydd fel electroneg plygadwy neu nwyddau gwisgadwy sy'n gysylltiedig â ffitrwydd. Nid oes unrhyw derfyn ar y potensial ar gyfer technoleg polymer plasma diolch i ymdrechion ymchwil a datblygu parhaus.
Hawlfraint © Rega (Yixing) Technologies Co, Ltd Cedwir pob hawl Polisi preifatrwydd
EN
CN
AR
HR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
RHIF
PL
PT
RO
RU
ES
SV
IW
ID
LV
SR
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
CY
MK
KA
UR
BN
MN